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Cathode supply voltage.
먼저 Substrate는 그 소재가 플라스틱이나 유리로 이루어져 있으며 OLED를 지지해주는 부분입니다.
Anode는 전류가 흐를 때 전자를 제거하여 정공(electron Holes)을 만드는 역할을 합니다. 그리고 그 위에 있는 Conducting Layer 이 층이 바로 Anode에 의해 영향을 받아 정공(Electron Holes)이 생
1. 프로젝트 소개와 배경
얼마 전 애플의 창업자이자 CEO 였던스티브잡스의 사망 소식은 인터넷을 뜨겁게 달구었고 많은 이들은 추모의 메시지를 보내며 안타까움을 감추지 못하였다. 하루에도 수도 없이 많은 사람들이 새로 이 세상에 오고, 동시에 떠나가는 요즘, 단지 한 사람의 죽음에 이렇게 많은
[3] Thin Film Deposition
초집적 반도체를 구성하는 소자들은 그 특성상 그 크기가 매우 얇아(작고) 미세한 조직을 가진다. 그리고 이것은 박막 증착(TFD = Thin Film Deposition) 공정을 통해 제작된다. 박막 증착이란 이름 그대로 표면에 얇은 막을 씌우는 기술을 뜻하는데 이 공정을 통해 기판(substrate)이나 이전에
실험 1차 실패에 대한 원인분석
Extruder 사용이 미숙하여 불순물이 많이 붙었다.
애초에 정상적인 시료를 많이 만들지 못해 필름을 여러 장 제작하지 못하였다.
Hot press 사용이 미숙하여 제대로 압력을 주지 못하였다.
(중략)
물성측정기기
-DSC(Differential Scanning Calorimetry 시차 주사 열량법)
제 1 장 서 론
2010년 10월 5일 밤, 노벨 물리학상 수상자로 그래핀(Graphene)을 연구한 외국 학자
2명의 이름이 발표되었다. 영광을 거머쥔 그들은 네덜란드 국적의 안드레 가임 맨체
스터대 교수(51)와 러시아 출신의 영국 과학자 콘스탄틴 노보셀로프 맨체스터대 교수
(36)이다. 바로 꿈의 나노 신소재로
어떻게?
① Metal을 이용
☞ Contact Resistance ↓, but Transmittance ↓
② Graphene을 이용
☞ Transmittance ↑, but Contact Resistance ↑
③ Metal/Graphene layer를 이용
☞ Transmittance ↑, Contact Resistance ↓
④ Patterned metal + Graphene을 이용 !! ↕:Good
☞ Transmittance ↑↑, Contact Resistance ↓↓ ↕: Bad
film위에 Chemical Vapor Deposition(CVD)을 시키면 고품질의 그래핀을 만들 수 있지만, 1000℃ 이상의 고온에서 생성시켜야 하기 때문에 제조시간이 길다는 단점이 있다.
Graphite oxide를 환원시켜서 그래핀을 얻을 수도 있다. 이 방법은 흑연을 산화시킨 후 잘게 쪼갠 뒤 환원제를 넣어 그래핀으로 환원하는 방식으
가. 기존 폴리머 태양전지의 한계
1) Active Layer를 구성하는 물질들의 Mobility가 낮기 때문에 100nm 이상의 두께를 초과하면 효율이 감소한다. 허나 대부분의 빛을 흡수하려면 300nm정도의 두께가 필요하기 때문에(이것도 실리콘 태양전지-마이크로 단위-보다 훨씬 얇은 두께이다.) 수광률이 떨어진다.
2) E
[Why ASML: Innovation-driven enterprises]
직장을 선택할 때 고려하는 우선적인 가치는 혁신을 통한 성장을 추구하는 회사인지를 판단하는 것입니다. 세계 반도체 시장은 공정의 미세화를 위해 고군분투 중이며, 이러한 선폭 미세화 경쟁의 한가운데 ASML이 자리잡고 있습니다. ASML은 EUV 공정을 이용해...